Controle de Umidade de Precisão para Fabricação de Semicondutores

A fabricação de semicondutores exige a manutenção precisa das condições de umidade. Os componentes usados na montagem e processamento dos semicondutores são geralmente higroscópicos e assim altamente suscetíveis a condições de umidade elevada.

Controle de Umidade - uma importante variável para:

• Evitar corrosão nos 'Circuitos integrados';
• Evitar a condensação na superfície dos circuitos nos micro chips;
• Proteger o equipamento;
• Proporcionar melhor aderência aos fotoresistores;
• Muitos outros problemas.

Consequentemente o controle de umidade se torna uma exigência na:

• Área de Montagem
  Na produção de semicondutores e circuitos integrados o excesso de umidade afeta contrariamente o processo de aderência e aumenta os defeitos.Os compostos de polímeros fotosensitivos chamados de fotoresistores são  usados para imprimir as linhas de circuito para o processo de estampa. Devido a sua natureza higroscópica eles absorvem a umidade resultando no corte ou quebra das linhas o que gera a falha no circuito.
• Área de Fabricação do Wafer/Bolacha
  Durante a fabricação o fomentador atua na superfície do wafer fazendo que o solvente presente no wafer evapore rapidamente, e assim resfriando sua superfície. Isso resulta na condensação de vapor de água do ar na superfície do wafer. Essa quantidade extra de água no wafer faz que as características do fomentador se modifiquem. O resistor também absorve a umidade ocasionando a dilatação do polímero. O controle da umidade relativa elimina a possibilidade de resfriamento da superfície do wafer abaixo do ponto de condensação do ar ao redor de sua superfície, e assim evita a falha e o refugo.
• Sala de Fotolitografia
  As condições na sala de fotolitografia precisam ser controladas e mantidas. A umidade excessiva faz com que a sílica absorva a umidade, resultando na aderência irregular do fotoresistor o que ocasiona ruptura de estresse e defeitos na superfície.
• Equipamentos a Vácuo Mais Rápidos
  Se o nível de umidade estiver alto, a velocidade de operação de equipamentos a vácuo como a bomba criogênica é reduzida devido a grande carga de vapor d' água. Se os níveis de umidade relativa puderem ser reduzidos consideravelmente isso resultará no aumento da velocidade de processamento.
• Para a Proteção de equipamento EPI(Epitaxial)
  O vapor de água ou umidade condensa-se em superfícies frias de equipamento epitaxial, gerando corrosão nos componentes e resultando em falhas no funcionamento e lentidão no processo. Os desumidificadores dessecantes Munters podem manter eficientemente as condições mais rigorosas de umidade exigidas pelos fabricantes de semicondutores, desde que consigam manter a umidade relativa constante em 1% ou até mais baixa, indiferentemente das condições do ambiente.
• Redução de COV (Compostos Orgânicos Voláteis)
  A Munters também pode fornecer soluções do tipo turn-key na redução de emissão de COV em exaustores em cabines de pinturas automotivas. Nosso sistema de rotor concentrador usa zeólitos hidrofóbicos para reduzir os COV a uma fração do fluxo de exaustão original antes de direcioná-los para um oxidante e serem destruídos. A Munters pode instalar sistemas completos, ou renovar sistemas existentes trocando os rotores de carbono potencialmente inflamáveis, que estejam ineficientes, por zeólitos que são totalmente inertes. Os rotores concentradores podem tratar o fluxo do exaustor no excedente de 300.000 cfm (190.000 Nm3).